电化学抛光具有抛光效果好、效率高等特点,尤其对于形状复杂的工件来讲,是一种很好很有效的表面处理方法,己在工业上得到了广泛的应用。然而现有铝、铜的电化学抛光液存在抛光效果差、成本高、污染环境等状况。针对这一实际,本文采用电化学极化的方法,通过正交试验对铝、铜的电化学抛光液及工艺进行研究。成功研制出了抛光效果好、速度快、无污染、低成本的电化学抛光液配方及抛光工艺参数。利用、等手段分析了试样抛光后的表面形貌及元素组成,通过显微硬度计、恒电位仪等设备分析抛光前后显微硬度和耐蚀性的变化,同时研究了铝、铜电化学抛光液各成分以及抛光工艺参数对抛光效果的影响。
      通过试验获得铝的电化学抛光最佳配方为氢氧化钠16克/升、碳酸钠100克/升、磷酸三钠65克/升、草酸4克/升、酒石酸钠2克/升、EDTA-2Na 6克/升,抛光的工艺参数为电流密度44A/Dm2、抛光温度80℃、抛光时间30min、搅拌250r/min。采用该配方和工艺参数进行电化学抛光后的铝试样表面粗糙度可达到0.05um,表面光泽度达到88.5%,表面显微硬度由抛光前的64.5Hv降低至36.5Hv,抛光后试样耐蚀性增强,自腐蚀电位由-0.8V升高到-0.7V铜的电化学抛光最佳配方为磷酸850ml/L、乙醇90ml/L、苯并三氮唑6克/升、乳酸60ml/L、乙酸胺3克/升，抛光的工艺参数为电流密度22A/dm2“、抛光温度40℃、抛光时间20min、搅拌250r/min。采用该配方和工艺参数进行电化学抛光后的铜试样表面粗糙度达到0.04um,表面光泽度达到85.1,显微硬度由抛光前的167.5HV降低至109.7HV,抛光后试样耐蚀性增强,自腐蚀电位由-0.05V升高至0.05V。